半导体湿法清洗与酸洗对沾污的控制近乎苛刻,任何金属离子或颗粒都可能影响器件良率。普通PP或再生料可能含填料与杂质,不适用于半导体环境;高纯PP采用洁净原料,金属离子含量低、析出少,能满足更高的洁净要求。高纯PP酸洗槽在焊接与加工时也需洁净管理,避免引入污染。槽体内壁应尽量光滑,减少颗粒滞留。金浩丰为半导体客户提供高纯PP槽体,从原料到焊接注重洁净控制,适配对沾污敏感的湿法工艺。